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GLOBALFOUNDRIES宣布为云端和边缘AI应用引入1

发表于 2019-9-12 08:23
[摘要] 而今天宣布的12lp+工艺就体现了他们在战略上面的转变,gf在新闻稿的标题中就已经表明了12lp+工艺是为云端和边缘ai应用引入的,改良之后的工艺在同功耗下面的性能可以提升20%,在同性能的情况下减少

事实上,在过去两年中,全球铸造厂(以下简称gf)在7纳米(7nm)等新技术的研发上逐渐停滞不前,并没有完全放弃继续改进现有工艺。今天,他们宣布为云和边缘ai应用引入一种新的12lp finfet工艺。

Gf的12lp流程实际上是通过购买三星的授权获得的,就像之前的14lp流程一样。2018年8月27日,台积电的7纳米工艺顺利进入大规模生产,广发银行宣布取消7lp工艺的开发,因为他们的总体战略从追求行业领先工艺转向专注于专业化工艺。

今天宣布的12lp进程反映了他们战略的变化。gf在新闻稿的标题中指出,12lp流程是为云和边缘ai应用程序引入的。改进后的工艺在相同功耗下可提高性能20%,在相同性能下可降低功耗40%。这种改进可以说是非常大的。此外,与最初的12lp工艺相比,12lp工艺还可以将密度提高15%。那么三星的12纳米工艺有多糟糕

gf 12lp工艺的关键特征之一是其高速低功耗0.5v sram单元,支持处理器和存储器之间快速节能的数据传输。这是计算和有线基础设施市场对人工智能应用的一个重要要求。另一个亮点是,该过程侧重于优化人工智能计算电路的设计,他们与arm进行了合作。在这个过程中,应用了由arm专门为gf开发的arm Artisan物理ip方案和专门用于ai应用的pop ip。

目前,该流程已经可用,gf已经开始与一些客户合作。样品预计将于2020年下半年生产,纽约马耳他的fab 8将于2021年开始大规模生产。

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